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排列三走势图200期:Tystar.光增強反應器

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Tystar PVD1000光增強型CVD反應器使用紫外線作為能源來在低溫下(<150ºC)激發工藝氣體以沉積介質薄膜。該設備可用于沉積二氧化硅薄膜(SiO2)、氮化硅薄膜(Si3N4)、氮氧化硅薄膜(SiON)和其它薄膜。由于沉積溫度較低從而得到低應力薄膜。由于所使用的UV光子能量沒有將工藝氣體電離,避免因帶電粒子造成的輻射損傷。

PVD1000沉積膜提供了良好的階梯覆蓋率。PVD1000系統采用單腔室和雙腔室。PVD1000反應器可用于各種“III/V”材料膜的沉積,比如砷化鎵、銻化銦和其它的材料,這些材料不能承受高的沉積溫度。

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