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FHR磁控濺射設備:采用磁控濺射技術制備精密光學部件

背景:早期薄膜技術在德累斯頓

1961年VEB Elektro­mat Dresden成立,成為生產半導體器件的技術設備的供應商,并于1975年在德累斯頓研發并制造了首臺工業用途真空濺射鍍膜設備。直至此時,人們才意識到濺射沉積工藝是較之熱蒸發工藝更佳的選擇,從那時起直至今日,濺射工藝一直是該領域的主導。后來,VEB Elektro­mat Dresden并購,德累斯頓微電子研究院成為VEB微電子研發中心(ZFMT)。兩德統一后,前VEB Elektro­mat三位工程師在德累斯頓共同創立FHR An­la­gen­ba GmbH,專注研發將鍍膜和刻蝕技術應用到微電子產品的工業創新項目中。


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2019年3月8日
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